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TiN 코팅 SiO₂/Si 웨이퍼 6인치 ⟨100⟩ 연구용
· 대표판매가
10원
· 공  급  원
해외제조사
· 판  매  처
주식회사 비전랩사이언스
· 연  락  처
032-861-0282
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TiN 코팅 SiO₂/Si 웨이퍼 6인치 ⟨100⟩ 연구용

Titanium Nitride SiO2/Si Wafer
 




STO(Strontium Titanate)TiN SiO₂/Si 웨이퍼는 반도체 및 박막 소자 연구를 위한 고품질 티타늄 나이트라이드 박막 기판입니다. ⟨100⟩ 결정 방향과 저비저항 특성으로 전극·배리어·박막 공정 연구에 안정적인 결과를 제공합니다.


 


 


반도체 전극·배리어 레이어 연구 

 

TiN 박막은 낮은 비저항과 화학적 안정성으로 전극층 및 확산 방지막 연구에 적합합니다.



 

박막 소자 및 MEMS 연구

 

균일한 TiN 코팅과 우수한 표면 품질로 소자 제작 및 미세 공정 실험에 활용됩니다.


 

박막 증착 공정 평가

 

스퍼터링, ALD, CVD 공정 조건 최적화용 테스트 기판으로 적합합니다.


 

제품명 Titanium Nitride SiO₂/Si Wafer
기판 구조 Si / SiO₂ / TiN
웨이퍼 크기 6 inch
두께 0.625 mm
결정 방향 ⟨100⟩ ±0.5°
도펀트 P-type
TiN 박막 두께 100 nm
표면 처리 단면 연마 (Single side polished)
표면 거칠기 Ra < 0.5 nm
비저항 < 0.05 Ω·cm
포장 단위 3 pcs / pack
용도 연구용 (Research Use Only)
납기 재고 소진 시 3~4주








 
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