Allresist사
Developer AR 300‑47,AR 300‑46







Developer AR 300-47과 Developer AR 300-46은 모두 Allresist사에서 제조한 금속 이온 무첨가 수용성 알칼리 현상액이지만, 용도와 강도(현상력)에서 주요 차이가 있습니다.
아래에 상세 비교표로 정리해드리겠습니다.











Developer AR 300-47 사용하는 작업

e-beam 리소그래피 후 현상----전자빔(전자선)을 이용해 고해상도 나노 패턴을 형성한 후, 민감한 레지스트를 깨끗하게 현상함.
고해상도 광리소그래피----0.5 μm 이하의 미세한 패턴이 필요한 작업에서, 대비가 높고 과현상 위험이 적어 정밀 패턴 형성에 유리함.
메탈 오염 민감 공정---반도체, 센서, 광소자 제조 등 금속 이온에 민감한 공정에서 사용. AR 300-47은 metal-ion free라 안전함.
CSAR 62, AR-N 7520 등 고감도 레지스트 작업-----고성능 레지스트가 쓰이는 공정에서 고대비로 정교하게 패턴을 남김.
나노 리소그래피, 반도체 마스크 제작, 정밀 패턴 식각용 공정



Developer AR 300-46 사용하는 작업

일반 포토리소그래피 후 현상----노광 후 레지스트를 제거하는 표준적인 포토공정에 사용됨
두꺼운 레지스트 패턴 작업----두께가 있는 레지스트의 경우 강한 현상액이 필요함. AR 300-46이 적합.
중간 해상도 패턴 제작-----1~5 μm급 일반적인 마이크로패턴을 만들 때 사용됨
빠른 대량 생산 공정----빠른 속도로 레지스트를 제거해야 하는 고속 생산라인(예: PCB 제조)에 적합함

PCB, 디스플레이, 마이크로패턴 공정, MEMS 장비 일반 포토공정



***** 납기는 별도로 문의 해주세요******