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Ti/실리콘 웨이퍼 위의 Cu 필름, Cu Film on Ti/Silicon Wafer, Cu=100 nm Ta=20nm,,Si(100) B-doped ,5x5x0.525mm
· 대표판매가
10원
· 공  급  원
해외제조사
· 판  매  처
주식회사 비전랩사이언스
· 연  락  처
032-861-0282
· 리 드 타 임
재고/예정재고가 없을시 약 2026-01-20일 납품가능 합니다.
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Ti/실리콘 웨이퍼 위의 Cu 필름

Cu Film on Ti/Silicon Wafer, Cu=100 nm
Ta=20nm,,Si(100) B-doped ,5x5x0.525mm




 

사양:
 

  • Cu코팅 Si웨이퍼 (5x5mm사이즈)
  • 고배향 다결정 Cu 막의 두께: 100 nm
  • Ta 확산 차단막의 두께: 50nm
  •  0.525mm 두께 Si 웨이퍼 (프라임 등급)
  • P타입, B도핑, 배향, SSP
  • 저항률: 1-20옴-cm
  • 표면 거칠기: 성장 시 RA < 10 nm
  • 패키지 : 1000등급 클린룸 1개 100등급 비닐봉투
  • 최소 주문 시 포장당 10개




 


 
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