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Ti/실리콘 웨이퍼 위의 Cu 필름, Cu Film on Ti/Silicon Wafer, 4in, Cu=100nm Ta=20nm, Si(100) B-doped
· 대표판매가
10원
· 공  급  원
해외제조사
· 판  매  처
주식회사 비전랩사이언스
· 연  락  처
032-861-0282
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Ti/실리콘 웨이퍼 위의 Cu 필름

Cu Film on Ti/Silicon Wafer, 4in, Cu=100nm Ta=20nm, Si(100) B-doped





 

사양:

  • Cu코팅 Si웨이퍼 (4인치사이즈)
  • 고배향 다결정 Cu <111> 필름의 두께: 100nm
  • Ta 확산 차단막의 두께: 20nm
  • 4인치다이아x0.525mm두께 Si웨이퍼 (프라임등급)
  • P형, B형 도핑, <100> 방향, SSP
  • 저항률: 1-20옴-cm
  • 표면 거칠기: 성장 시 RA < 10 nm
  • 패키지 : 1000등급 클린룸 1개 100등급 비닐봉투




 
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